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MARC状态:审校 文献类型:中文图书 浏览次数:2

题名/责任者:
集成电路与等离子体装备/赵晋荣等主编
出版发行项:
北京:科学出版社,2024
ISBN及定价:
978-7-03-077546-7 精装/CNY168.00
载体形态项:
282页:彩图;25cm
并列正题名:
Integrated circuit and plasma based apparatus
个人责任者:
赵晋荣 主编
学科主题:
集成电路
学科主题:
等离子刻蚀-设备
中图法分类号:
TN4
中图法分类号:
TN305.7
书目附注:
有书目
提要文摘附注:
本书主要介绍了集成电路中与等离子体设备相关的内容,具体包括集成电路简史、分类和发展方向以及面临的挑战,气体放电的基本原理和典型应用、等离子体刻蚀工艺与设备、等离子体表面处理技术与设备、物理气相沉积设备与工艺、等离子体增强化学气相沉积工艺与设备、高密度等离子体化学气相沉积工艺与设备、炉管设备与工艺等。
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