MARC状态:审校 文献类型:中文图书 浏览次数:88
- 题名/责任者:
- 自由基等离子体刻蚀硅基光学元件特性研究/李坤著 刘卫国教授指导
- 出版发行项:
- 西安:西安工业大学,2020
- ISBN及定价:
- 缴送
- 载体形态项:
- 44页;29cm
- 个人责任者:
- 李坤 著
- 个人次要责任者:
- 刘卫国教授 指导
- 非控制主题词:
- 自由基等离子体;硅基光学元件;刻蚀特性;表面粗糙度;亚表面损伤;
- 中图法分类号:
- TH74
- 学位论文附注:
- 专业硕士学位论文——西安工业大学光电工程学院,2020
全部MARC细节信息>>