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题名/责任者:

衍射极限附近的光刻工艺/伍强等编著

出版发行项:

北京:清华大学出版社,2020

ISBN及定价:

978-7-302-53742-7/CNY168.00

载体形态项:

19, 653页:彩图;26cm

并列正题名:

Photolithography process near the diffraction limit

丛编项:

高端集成电路制造工艺丛书

个人责任者:

伍强 编著

学科主题:

光刻设备-研究

中图法分类号:

TN305.7

一般附注:

国家出版基金项目 2019年国画出版基金资助项目 “十三五”国家重点图书出版规划项目

书目附注:

有索引

提要文摘附注:

本书将对光刻从设备、材料和工艺以及工艺仿真作一个全面的展示。尤其将针对临近衍射极限的光刻技术，比如193nm浸没式光刻技术作一个重点地阐述。针对国内缺乏的光刻设备和先进光化学材料的技术情况下，本书试图在深度上有所突破，比如在光刻机的结构设计，校准，以及各主要零部件所应该达到的尺寸规格和机械精度、测控性能作深入的探讨。

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