MARC状态：审校 文献类型：中文图书 浏览次数：52
- 题名/责任者:
- 集成电路制造技术/杜中一著
- 出版发行项:
- 北京:化学工业出版社,2016
- ISBN及定价:
- 978-7-122-26284-4/CNY35.00
- 载体形态项:
- 172页:图;24cm
- 个人责任者:
- 杜中一 著
- 学科主题:
- 集成电路工艺
- 中图法分类号:
- TN405
- 书目附注:
- 有书目(第172页)
- 提要文摘附注:
- 一书全面系统地介绍了集成电路制造技术，内容包括：集成电路制造概述、多晶半导体的制备、单晶半导体的制备、晶圆制备、薄膜制备、金属有机物化学气相沉积、光刻、刻蚀及掺杂。本书简要介绍了集成电路制造的基本理论基础，系统介绍了多晶半导体、单晶半导体与晶圆的制备，详细介绍了薄膜制备、光刻与刻蚀及掺杂等工艺。
全部MARC细节信息>>
| 索书号 | 条码号 | 年卷期 | 馆藏地 | 书刊状态 | 还书位置 |
| TN405/16 | CN1463456 | - |  内阅图书
|
阅览 | |
| TN405/16 | CN1463457 | - | 未央馆
|
可借 | 未央馆 |
| TN405/16 | CN1463458 | - | 未央馆
|
可借 |
显示全部馆藏信息