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MARC状态:审校 文献类型:中文图书 浏览次数:29

题名/责任者:
集成电路与光刻机/王向朝, 戴凤钊等著
出版发行项:
北京:科学出版社,2020
ISBN及定价:
978-7-03-065792-3/CNY58.00
载体形态项:
133页:彩图;24cm
并列正题名:
Integrated circuit and lithographic tool
个人责任者:
王向朝
个人责任者:
戴凤钊
学科主题:
集成电路
学科主题:
光刻设备
中图法分类号:
TN4
中图法分类号:
TN305.7
书目附注:
有书目 (第121-133页)
提要文摘附注:
本书介绍了集成电路与光刻机的发展历程。重点介绍了光刻机整机、分系统与曝光光源的主要功能、基本结构、工作原理、关键技术等。简要介绍了计算光刻技术。最后介绍了光刻机成像质量的提升与光刻机整机、分系统的技术进步。
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