MARC状态:审校 文献类型:中文图书 浏览次数:37
- 题名/责任者:
- 集成电路制造与封装基础/商世广 ... [等] 编著
- 出版发行项:
- 北京:科学出版社,2018
- ISBN及定价:
- 978-7-03-058386-4/CNY108.00
- 载体形态项:
- x, 381页:图;24cm
- 个人责任者:
- 商世广 编著
- 个人责任者:
- 金蕾 编著
- 个人责任者:
- 赵萍 编著
- 学科主题:
- 集成电路工艺-高等教育-教材
- 中图法分类号:
- TN405
- 一般附注:
- 普通高等教育“十三五”规划教材
- 题名责任附注:
- 题名页题其余责任者: 金蕾, 赵萍, 谢端
- 书目附注:
- 有书目
- 提要文摘附注:
- 本书主要介绍了半导体性质、硅片制备、氧化技术、光刻技术、图形技术、掺杂技术、薄膜物理制备、薄膜化学制备、工艺集成、工艺监控、封装技术、可靠性设计、可靠性筛选和组装检测等微电子技术领域的基本内容, 这些内容为进一步掌握半导体材料、半导体器件和集成电路制造、封装和测试的基本理论和方法奠定坚实的基础。
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索书号 | 条码号 | 年卷期 | 馆藏地 | 书刊状态 | 还书位置 |
TN405/20 | CN1563181 | 内阅图书 | 阅览 | 内阅图书 | |
TN405/20 | CN1563182 | 未央馆 | 借出-应还日期:2025-01-07 | 未央馆 |
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