MARC状态：审校 文献类型：中文图书 浏览次数：46
- 题名/责任者:
- SiOxNy光学薄膜折射率渐变特性研究/李松晓著 杭凌侠指导
- 出版发行项:
- 西安:西安工业大学,2018
- ISBN及定价:
- 缴送
- 载体形态项:
- 59页;29cm
- 个人责任者:
- 李松晓 著
- 个人次要责任者:
- 杭凌侠 指导
- 非控制主题词:
- SiOxNy；光学薄膜；PECVD；渐变折射率
- 中图法分类号:
- TB383
- 学位论文附注:
- 硕士学位论文——西安工业大学光电工程学院，2018
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