MARC状态：已编 文献类型：中文图书 浏览次数：26
- 题名/责任者:
- 硅快速深刻蚀技术的研究/马睿著 蔡长龙指导
- 出版发行项:
- 西安:西安工业大学,2009
- ISBN及定价:
- 缴送
- 载体形态项:
- 67页;28cm
- 个人责任者:
- 马睿 著
- 个人次要责任者:
- 蔡长龙 指导
- 非控制主题词:
- ICP刻蚀 掩蔽层 图形化 刻蚀速率 选择比 交替复合深刻蚀
- 中图法分类号:
- TN305.2
- 学位论文附注:
- 硕士论文——西安工业大学光电学院，2009
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