机读格式显示(MARC)

• 000 01382nam2 2200385 4500

• 000 0000114517

• 001 0000081970

• 005 20060918152826.0

• 010 __ |a 7-5025-5698-2 |d CNY68.00

• 021 __ |a CN |b 01-2002-6066

• 100 __ |a 20041018d2004 em y0chiy0110 ea

• 101 1_ |a chi |c eng

• 102 __ |a CN |b 110000

• 105 __ |a a a 000yy

• 106 __ |a r

• 200 1_ |a 硅及其氧化物的电化学 |9 Gui Ji Qi Yang Hua Wu De Dian Hua Xue |e 表面反应、结构和微加工 |f (加) 章小鸽编著 |g 张俊喜, 张大全, 徐群杰等译

• 210 __ |a 北京 |c 化学工业出版社 |d 2004

• 215 __ |a 443页 |c 图 |d 24cm

• 300 __ |a 其他题名：表面反应、结构和微加工

• 320 __ |a 有书目 (第398-443页)。

• 330 __ |a 本书系统地介绍了关于硅及其氧化物的电化学从理论到实践的全部知识，包括对硅/电解液界面，阳极氧化，刻蚀，光效应，阴极特性及氧化-还原对，多孔硅和光电化学的详细阐述。

• 517 1_ |a 表面反应、结构和微加工 |9 biaomianfanying、jiegouheweijiagong

• 606 0_ |a 硅 |x 电化学 |A gui

• 606 0_ |a 硅 |x 氧化物 |x 电化学 |A gui

• 690 __ |a O613.72 |v 4

• 701 _0 |a 章小鸽 |9 Zhang Xiao Ge |4 编著

• 702 _0 |a 张俊喜 |9 Zhang Jun Xi |4 译

• 702 _0 |a 张大全 |9 Zhang Da Quan |4 译

• 702 _0 |a 徐群杰 |9 Xu Qun Jie |4 译

• 801 _0 |a CN |b XAXH |c 20040925

• 801 _2 |a CN |b 261060 |c 20060918

• 905 __ |a XATU |d O613.72/1

• 991 __012006010140

• 995 __ |a 261060 |f O613.72/1

• 999 __ |t C |A zml |a 20041018 14:30:01 |I zw |i 20060918 15:28:2