机读格式显示(MARC)

• 000 00859nam0 2200253 450

• 001 0000322671

• 005 20180619140200.0

• 010 __ |b 缴送

• 100 __ |a 20180619d2015 ekmy0chiy50 ea

• 101 1_ |a chi

• 102 __ |a CN |b 610000

• 105 __ |a y m 000yy

• 106 __ |a r

• 200 1_ |a 基于阵列刻蚀的微通道板制备技术研究 |A Ji Yu Zhen Lie Ke Shi De Wei Tong Dao Ban Zhi Bei Ji Shu Yan Jiu |f 范琳琳著 |g 韩军指导

• 210 __ |a 西安 |c 西安工业大学 |d 2015

• 215 __ |a 54页 |d 29cm

• 328 __ |a 硕士学位论文——西安工业大学光电工程学院，2015

• 610 0_ |a 微通道阵列；光刻；湿法腐蚀；剥离；低温反应离子刻蚀 |A Wei Tong Dao Zhen Lie；Guang Ke；Shi Fa Fu Shi；Bo Li；Di Wen Fan Ying Li Zi Ke Shi

• 690 __ |a TB756 |v 5

• 701 _0 |a 范琳琳 |A Fan Lin Lin |4 著

• 702 _0 |a 韩军 |A Han Jun |4 指导

• 801 _0 |a CN |b XATU |c 20180619

• 905 __ |a XATU |d TB756/1

• 920 __ |a 261060 |z 1