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• 010 __ |a 978-7-03-078124-6 |b 精装 |d CNY130.00

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• 200 1_ |a 先进计算光刻 |A xian jin ji suan guang ke |f 李艳秋等著

• 210 __ |a 北京 |c 科学出版社 |d 2024

• 215 __ |a 233页 |c 图 |d 25cm

• 300 __ |a 国家科学技术学术著作出版基金

• 304 __ |a 题名页题其余责任者：马旭、孙义钰、袁淼

• 320 __ |a 有书目

• 330 __ |a 本书主要介绍作者在20余年从事光刻机研发中，建立的先进计算光刻技术，包括矢量计算光刻、快速-全芯片计算光刻、高稳定-高保真计算光刻、光源-掩模-工艺多参数协同计算光刻等，能够实现快速-高精度-全曝光视场-低误差敏感度的高性能计算光刻。矢量计算光刻包括零误差、全光路严格的矢量光刻成像模型及OPC和SMO技术。快速-全芯片计算光刻包括压缩感知、贝叶斯压缩感知、全芯片压缩感知计算光刻技术。高稳定-高保真计算光刻包括低误差敏感度的SMO技术、全视场多目标SMO技术、多目标标量和矢量光瞳优化技术。光源-掩模-工艺多参数协同计算光刻包括含偏振像差、工件台振动误差、杂散光误差的光刻设备-掩模-工艺多参数协同优化技术。解决传统计算光刻在零误差假设、局域坐标系、理想远心、单个视场点获得的掩模-光源，无法最佳匹配实际光刻系统之所需，导致增加工艺迭代时间的问题。

• 606 0_ |a 集成电路工艺 |A ji cheng dian lu gong yi |x 电子束光刻

• 690 __ |a TN405.98 |v 5

• 701 _0 |a 李艳秋 |A li yan qiu |4 著

• 701 _0 |a 马旭 |A ma xu |4 著

• 701 _0 |a 孙义钰 |A sun yi yu |4 著

• 801 _0 |a CN |b NMU |c 20240524

• 905 __ |a XATU |d TN405.98/2

• 920 __ |a 261060 |z 1

• 998 __ |a NMU