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• 200 10 |a 离子束沉积薄膜技术及应用 |f 刘金声著 |9 Lizishuchenjibomojishujiyingyong |P LZSCJBMJSJYY

• 210 __ |a 北京 |c 国防工业出版社 |d 2003

• 215 __ |a 434页 |d 21cm

• 330 __ |a 本书系统地介绍先进离子束沉积(IBD)薄膜技术及应用。全书共五章。包括离子束沉积薄膜技术基础；离子束溅射沉积薄膜技术研究及应用；双离子束制取薄膜和改性方法；离子束反应溅射沉积薄膜方法；离子束辅助轰击生长薄膜效应及离子束辅助沉积薄膜方法。本书取材新颖，理论联系实际，书中提供了丰富的研究方法及范例，对普及和推广离子束沉积薄膜技术具有重要指导意义。

• 606 0_ |a 薄膜技术 |A Bomojishu

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• 701 _0 |a 刘金声 |4 著 |9 Liujinsheng

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