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• 200 10 |a 大规模集成电路工厂洁净技术 |A DA GUI MO JI CHENG DIAN LU GONG CHANG JIE JING JI SHU |f (日)铃木道夫等著 |F ( RI ) LING MU DAO FU DENG ZHU |g 陈 衡等译

• 210 __ |a 北京 |c 电子工业出版社 |d 1990.9

• 215 __ |a 522页 |d 26厘米

• 330 __ |a 本书作者从理论和实践两方面详细阐述了当前大规模集成电路生产工艺对洁净技术的要求和今后发展方向、超级洁净室的设计、施工技术问题和应采取的措施、辅助设施超纯水、药品、废水处理和高纯气体等最新应用技术以及洁净室运行管理的实际问题。

• 540 1_ |a 大规模 集成 电路 工厂 洁净 技术 |A DA GUI MO JI CHENG DIAN LU GONG CHANG JIE JING JI SHU

• 606 _0 |a 大规模集成电路-工厂-净化

• 606 _0 |a 工厂-大规模集成电路-净化

• 606 _0 |a 净化-工厂-大规模集成电路

• 690 __ |a TN47

• 701 _0 |a 铃木道夫 |A LING MU DAO FU |4 著

• 701 _0 |a 陈衡 |A CHEN HENG |4 译

• 801 _0 |a CN |b NLC |c 19910327

• 905 __ |a XATU |d TN47/26

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• 995 __ |a 261060 |f TN47/26

• 999 __ |E yyll |e 20000323212956 |M yyll |m 20000323213134 |G yyll |g 2000032321321