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• 106 __ |a r

• 200 1_ |a PECVD技术制备1064nm高反膜 |A Pecvd Ji Shu Zhi Bei 1064nm Gao Fan Mo |f 李林军著 |g 杭凌侠，王莉红指导

• 210 __ |a 西安 |c 西安工业大学 |d 2014

• 215 __ |a 48页 |d 29cm

• 328 __ |a 工程硕士学位论文——西安工业大学光电工程学院，2014

• 610 0_ |a PECVD；光学薄膜；高反膜；抗激光损伤阈值 |A Pecvd；Guang Xue Bo Mo；Gao Fan Mo；Kang Ji Guang Sun Shang Yu Zhi

• 690 __ |a O484 |v 5

• 701 _0 |a 李林军 |A Li Lin Jun |4 著

• 702 _0 |a 杭凌侠 |A Hang Ling Xia |4 指导

• 702 _0 |a 王莉红 |A Wang Li Hong |4 指导

• 801 _0 |a CN |b XATU |c 20180619

• 905 __ |a XATU |d O484/68

• 920 __ |a 261060 |z 1