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• 200 1_ |a 电子束曝光微纳加工技术 |A dian zi shu pu guang wei na jia gong ji shu |f 顾文琪主编 |g 王理明 ... [等] 著

• 210 __ |a 北京 |c 北京工业大学出版社 |d 2004

• 215 __ |a 310页 |c 图 |d 26cm

• 225 2_ |a 电子束、离子束、光子束微纳加工技术系列专著 |A dian zi shu li zi shu guang zi shu wei na jia gong ji shu xi lie zhuan zhu

• 320 __ |a 有书目。

• 330 __ |a 本书系统地介绍了电子束曝光技术的发展和原理、系统的组成和分类、应用和发展前景，同时，详细介绍了多种先进的电子束曝光机的性能和技术指标，电子光学柱、精密工件台等分部件和掩模版制作、电子束直刻等关键技术。

• 410 _0 |1 2001 |a 电子束离子束光子束微纳加工技术系列专著

• 606 0_ |a 电子束 |A dian zi shu |x 曝光

• 690 __ |a TN305.7 |v 5

• 701 _0 |a 顾文琪, |A Gu Wenqi |f 1941- |4 主编

• 702 _0 |a 王理明 |A Wang Liming |4 著

• 801 _0 |a CN |b BTBU |c 20040908

• 905 __ |a XATU |d TN305.7/5

• 920 __ |a 261060 |z 1

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