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• 200 1_ |a 磁约束磁控溅射源的工艺探索 |A ci yue shu ci kong jian she yuan de gong yi tan suo |f 潘婷著 |g 弥谦指导

• 210 __ |a 西安 |c 西安工业大学 |d 2011

• 215 __ |a 71页 |d 28cm

• 328 __ |a 硕士论文--西安工业大学光电学院,2011

• 610 0_ |a 磁控溅射 磁约束 磁场 沉积速率 |A cikongjianshe ciyueshu cichang chenjisulv

• 690 __ |a O532.11 |v 5

• 701 _0 |a 潘婷 |A pan ting |4 著

• 702 _0 |a 弥谦 |A mi qian |4 指导

• 801 _0 |a CN |b 261060 |c 20110901

• 905 __ |a XATU |d O532.11/3

• 920 __ |a 261060 |z 1