机读格式显示(MARC)

• 000 02168cam 2200673 450

• 001 0000237148

• 005 20160630144600.0

• 010 __ |a 978-7-03-045919-0 |d CNY128.00

• 021 __ |a CN |b 01-2014-1161

• 099 __ |a CAL 012015165825

• 100 __ |a 20151225d2015 em y0chiy50 ea

• 101 1_ |a chi |c eng

• 102 __ |a CN |b 110000

• 105 __ |a a a 000yy

• 106 __ |a r

• 200 1_ |a 射频等离子体物理学 |A she pin deng li zi ti wu li xue |f (法) 帕斯卡·夏伯特, (英) 尼古拉斯·布雷斯韦特著 |g 王友年, 徐军, 宋远红译

• 210 __ |a 北京 |c 科学出版社 |d 2015

• 215 __ |a 321页 |c 图 |d 24cm

• 225 2_ |a 现代应用物理学丛书 |A xian dai ying yong wu li xue cong shu

• 306 __ |a 本书限中国大陆发行

• 312 __ |a 书名原文取自版权页

• 320 __ |a 有书目 (第313-321页)

• 330 __ |a 本书针对微电子工业中的材料处理工艺(如半导体芯片加工)，介绍有关的的低气压射频等离子体的产生方法及物理特性，涉及目前最重要的三种射频等离子体源(单频及多频电容耦合，电感耦合，螺旋波耦合)及其关联性。书中也论述了低温高密度等离子体在微电子器件制备等领域应用的最新进展及相关技术问题。

• 410 _0 |1 2001 |a 现代应用物理学丛书

• 510 1_ |a Physics of radio-frequency plasmas |z eng

• 606 0_ |a 射频 |A she pin |x 等离子体物理学

• 690 __ |a O53 |v 5

• 701 _1 |a 夏伯特 |A xia bo te |g (Chabert, Pascal), |f 1969- |4 著

• 701 _1 |a 布雷斯韦特 |A bu lei si wei te |g (Braithwaite, Nicholas) |4 著

• 702 _0 |a 王友年 |A wang you nian |4 译

• 702 _0 |a 徐军 |A xu jun |4 译

• 702 _0 |a 宋远红 |A song yuan hong |4 译

• 801 _0 |a CN |b NEU |c 20151225

• 801 _2 |a CN |b PUL |c 20160301

• 905 __ |a XATU |d O53/23

• 920 __ |a 211010 |z 2

• 920 __ |a 221060 |z 1

• 920 __ |a 237020 |z 1

• 920 __ |a 231030 |z 1

• 920 __ |a 261020 |z 1

• 920 __ |a 232010 |z 1

• 920 __ |a 244020 |z 1

• 920 __ |a 211030 |z 1

• 920 __ |a 221020 |z 1

• 920 __ |a 245010 |z 1

• 920 __ |a 221110 |z 1

• 920 __ |a 251010 |z 1

• 920 __ |a 232020 |z 1

• 920 __ |a 211260 |z 1

• 920 __ |a 232340 |z 1

• 920 __ |a 261030 |z 1

• 920 __ |a 242020 |z 1

• 920 __ |a 242010 |z 1

• 920 __ |a 237010 |z 1

• 920 __ |a 222107 |z 1

• 920 __ |a 231220 |z 2

• 920 __ |a 235010 |z 1

• 920 __ |a 214010 |z 1

• 998 __ |a NEU