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• 000 01281nam0 2200313 450

• 001 0000368368

• 005 20200610154300.0

• 010 __ |a 978-7-5024-8197-1 |d CNY45.00

• 099 __ |a CAL 012019147008

• 100 __ |a 20191107d2019 em y0chiy50 ea

• 101 0_ |a chi

• 102 __ |a CN |b 110000

• 105 __ |a ak a 000yy

• 106 __ |a r

• 200 1_ |a 石墨烯基础及氢气刻蚀 |A shi mo xi ji chu ji qing qi ke shi |f 王彬 ... [等] 著

• 210 __ |a 北京 |c 冶金工业出版社 |d 2019

• 215 __ |a 133页 |c 图 |d 24cm

• 304 __ |a 题名页著者还有: 王宇薇, 王雪娇, 魏颖

• 320 __ |a 有书目

• 330 __ |a 本书首先介绍了石墨烯的晶体和能带结构，石墨烯的制备方法以及在电子器件、热传导、场发射、传感器、复合物和能量存储等方面的应用；然后本书详细介绍了利用CVD法在Mo膜和抛光Cu衬底上制备高质量的石墨烯薄膜；最后详细研究了石墨烯的H2刻蚀现象。由于石墨烯具有的独特的晶体结构、优异的电学、光学和机械性质，使其在纳米电子器件和储能应用等诸多领域引起科研人员的极大关注。近年来，石墨烯的基础研究越来越透彻，石墨烯器件的发展也随之突飞猛进。

• 606 0_ |a 石墨 |A shi mo |x 纳米材料 |x 研究

• 690 __ |a TB383 |v 5

• 701 _0 |a 王彬 |A wang bin |4 著

• 701 _0 |a 王宇薇 |A wang yu wei |4 著

• 701 _0 |a 王雪娇 |A wang xue jiao |4 著

• 801 _0 |a CN |b NEU |c 20191107

• 905 __ |a XATU |d TB383/301

• 920 __ |a 261060 |z 1

• 998 __ |a NEU