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• 200 1_ |a 离子束溅射源特性及其镀膜工艺研究 |9 lizishujiansheyuantexingjiqidumogongyiyanjiu |f 张进著 |g 朱昌指导

• 210 __ |a 西安 |c 西安工业大学 |d 2007

• 215 __ |a 59页 |d 28cm

• 328 __ |a 硕士论文--西安工业大学光电工程学院,2007

• 610 0_ |a 离子束溅射镀膜(IBSD) 离子源 沉积速率 磁路 择优取向 |A lizishujianshedumo(IBSD) liziyuan chenjisulv cilu zhaiyouquxiang

• 690 __ |a O484.4 |v 4

• 701 _0 |a 张进 |4 著 |9 zhangjin

• 702 _0 |a 朱昌 |4 指导 |9 zhuchang

• 801 _0 |a CN |b 261060 |c 20080904

• 905 __ |a XATU |d O484.4/11

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• 999 __ |t A |A zw |a 20080904 09:19:4