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• 000 00921nam0 2200265 450

• 001 0000316784

• 005 20180412172200.0

• 010 __ |b 缴送

• 100 __ |a 20180412d2016 ekmy0chiy50 ea

• 101 1_ |a chi

• 102 __ |a CN |b 610000

• 105 __ |a y m 000yy

• 106 __ |a r

• 200 1_ |a 用于仿生自清洁微结构的干涉光刻技术研究 |A Yong Yu Fang Sheng Zi Qing Jie Wei Jie Gou De Gan She Guang Ke Ji Shu Yan Jiu |f 马丽娜著 |g 张锦，李克炎指导

• 210 __ |a 西安 |c 西安工业大学 |d 2016

• 215 __ |a 61页 |d 29cm

• 328 __ |a 工程硕士学位论文——西安工业大学光电工程学院，2016

• 610 0_ |a 激光干涉光刻；周期微结构；自清洁；表观接触角 |A Ji Guang Gan She Guang Ke；Zhou Qi Wei Jie Gou；Zi Qing Jie；Biao Guan Jie Chu Jiao

• 690 __ |a TN205 |v 5

• 701 _0 |a 马丽娜 |A Ma Li Na |4 著

• 702 _0 |a 张锦 |A Zhang Jin |4 指导

• 702 _0 |a 李克炎 |A Li Ke Yan |4 指导

• 801 _0 |a CN |b XATU |c 20180412

• 905 __ |a XATU |d TN205/3

• 920 __ |a 261060 |z 1