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• 010 __ |a 978-7-302-53742-7 |d CNY168.00

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• 200 1_ |a 衍射极限附近的光刻工艺 |A yan she ji xian fu jin de guang ke gong yi |d = Photolithography process near the diffraction limit |f 伍强等编著 |z eng

• 210 __ |a 北京 |c 清华大学出版社 |d 2020

• 215 __ |a 19, 653页 |c 彩图 |d 26cm

• 225 2_ |a 高端集成电路制造工艺丛书 |A gao duan ji cheng dian lu zhi zao gong yi cong shu

• 300 __ |a 国家出版基金项目 2019年国画出版基金资助项目 “十三五”国家重点图书出版规划项目

• 320 __ |a 有索引

• 330 __ |a 本书将对光刻从设备、材料和工艺以及工艺仿真作一个全面的展示。尤其将针对临近衍射极限的光刻技术，比如193nm浸没式光刻技术作一个重点地阐述。针对国内缺乏的光刻设备和先进光化学材料的技术情况下，本书试图在深度上有所突破，比如在光刻机的结构设计，校准，以及各主要零部件所应该达到的尺寸规格和机械精度、测控性能作深入的探讨。

• 410 _0 |1 2001 |a 高端集成电路制造工艺丛书

• 510 1_ |a Photolithography process near the diffraction limit |z eng

• 606 0_ |a 光刻设备 |A guang ke she bei |x 研究

• 690 __ |a TN305.7 |v 5

• 701 _0 |a 伍强 |A wu qiang |4 编著

• 801 _0 |a CN |b NMU |c 20200509

• 905 __ |a XATU |d TN305.7/4

• 998 __ |a NMU