MARC状态：审校 文献类型：中文图书 浏览次数：21
- 题名/责任者:
- 单晶硅元件自由基等离子体加工关键工艺技术研究/宋梓荣著 惠迎雪副教授刘政研高工指导
- 出版发行项:
- 西安:西安工业大学,2023
- ISBN及定价:
- 缴送
- 载体形态项:
- 55页;29cm
- 个人责任者:
- 宋梓荣 著
- 个人次要责任者:
- 惠迎雪副教授 指导
- 个人次要责任者:
- 刘政研高工 指导
- 非控制主题词:
- 自由基等离子体；刻蚀特性；刻蚀速率；单晶硅；微结构
- 中图法分类号:
- TN304
- 学位论文附注:
- 专业硕士学位论文——西安工业大学电子信息工程学院，2023
全部MARC细节信息>>
特种