MARC状态：已编 文献类型：中文图书 浏览次数：30
- 题名/责任者:
- 碳化硅元件自由基等离子体加工关键工艺研究/杨梦熊著 惠迎雪指导
- 出版发行项:
- 西安:西安工业大学,2021
- ISBN及定价:
- 缴送
- 载体形态项:
- 63页;29cm
- 个人责任者:
- 杨梦熊 著
- 个人次要责任者:
- 惠迎雪 指导
- 非控制主题词:
- SiC；自由基等离子体；超光滑表面；亚表面损伤；刻蚀特性
- 中图法分类号:
- TB33
- 学位论文附注:
- 硕士学位论文——西安工业大学光电工程学院，2021
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