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题名/责任者:

KDP晶体抛光机理与工艺研究/马波著 刘卫平指导

出版发行项:

西安:西安工业大学,2020

ISBN及定价:

缴送

载体形态项:

62页;29cm

个人责任者:

马波 著

个人次要责任者:

刘卫国 指导

非控制主题词:

KDP晶体；抗激光损伤阈值；离子束刻蚀抛光；离子束沉积修正抛光；表面粗糙度

中图法分类号:

O485

学位论文附注:

硕士学位论文——西安工业大学光电工程学院，2020

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