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MARC状态:审校 文献类型:中文图书 浏览次数:32

题名/责任者:
单层WS₂晶体薄膜的CVD法制备工艺及其光电性能研究/骆磊著 常芳娥教授指导
出版发行项:
西安:西安工业大学,2020
ISBN及定价:
缴送
载体形态项:
71页;29cm
个人责任者:
骆磊
个人次要责任者:
常芳娥 指导
非控制主题词:
单层WS₂晶体薄膜,化学气相沉积法;薄膜转移工艺,光电探测器
中图法分类号:
TB383
学位论文附注:
专业硕士学位论文——西安工业大学材料与化工学院,2020
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索书号 条码号 年卷期 馆藏地 书刊状态 还书位置
TB383/357 759005788   特种     阅览 特种
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