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题名/责任者:

石墨烯基础及氢气刻蚀/王彬 ... [等] 著

出版发行项:

北京:冶金工业出版社,2019

ISBN及定价:

978-7-5024-8197-1/CNY45.00

载体形态项:

133页:图;24cm

个人责任者:

王彬 著

个人责任者:

王宇薇 著

个人责任者:

王雪娇 著

学科主题:

石墨-纳米材料-研究

中图法分类号:

TB383

题名责任附注:

题名页著者还有: 王宇薇, 王雪娇, 魏颖

书目附注:

有书目

提要文摘附注:

本书首先介绍了石墨烯的晶体和能带结构，石墨烯的制备方法以及在电子器件、热传导、场发射、传感器、复合物和能量存储等方面的应用；然后本书详细介绍了利用CVD法在Mo膜和抛光Cu衬底上制备高质量的石墨烯薄膜；最后详细研究了石墨烯的H2刻蚀现象。由于石墨烯具有的独特的晶体结构、优异的电学、光学和机械性质，使其在纳米电子器件和储能应用等诸多领域引起科研人员的极大关注。近年来，石墨烯的基础研究越来越透彻，石墨烯器件的发展也随之突飞猛进。

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