MARC状态：审校 文献类型：中文图书 浏览次数：35
- 题名/责任者:
- 磁控溅射制备氮化铜薄膜的结构与性能/肖剑荣著
- 出版发行项:
- 北京:中国水利水电出版社,2019
- ISBN及定价:
- 978-7-5170-7439-7/CNY57.00
- 载体形态项:
- 173页:图;24cm
- 个人责任者:
- 肖剑荣 (1967-) 著
- 学科主题:
- 铜-金属薄膜-氮化处理-结构-研究
- 学科主题:
- 铜-金属薄膜-氮化处理-性能-研究
- 中图法分类号:
- TF811
- 提要文摘附注:
- 磁控溅射是一种通用、成熟的薄膜制备工艺技术，其制备工艺可调剂参数较多，通过精细控制能够实现对薄膜结构的有效调控，本书研究了薄膜的工艺参数、薄膜结构与性能等之间的内在关系，探讨了薄膜的电子输运、光学带隙、热稳定性的有关物理量的变化机制。
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| 索书号 | 条码号 | 年卷期 | 馆藏地 | 书刊状态 | 还书位置 |
| TF811/3 | CN1790376 |  内阅图书
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阅览 | 内阅图书 | |
| TF811/3 | CN1790377 | 未央馆
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可借 | 未央馆 | |
| TF811/3 | CN1790378 | 未央馆
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可借 | 未央馆 |
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