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题名/责任者:

等离子体蚀刻及其在大规模集成电路制造中的应用/张海洋等编著

出版发行项:

北京:清华大学出版社,2018

ISBN及定价:

978-7-302-48959-7 精装/CNY128.00

载体形态项:

376页:图, 肖像;27cm

并列正题名:

Plasma etching and its application in large scale integrated circuit manufacturing

丛编项:

高端集成电路制造工艺丛书

个人责任者:

张海洋 编著

学科主题:

大规模集成电路-集成电路工艺-等离子刻蚀

中图法分类号:

TN405.98

一般附注:

“十三五”国家重点图书出版规划项目

书目附注:

有书目

提要文摘附注:

本书系统性回顾了过去半个世纪干法蚀刻技术的演变, 深入介绍了该技术的基本机理, 在逻辑产品和闪存产品中的具体应用以及对于逻辑电路可靠性影响的系统分析。同时针对特殊气体和特种材料的蚀刻应用进行了展望; 最后以高等过程蚀刻控制重要性及其在集成电路制造中应用的必要性结尾;

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