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题名/责任者:

基于脉冲激光沉积富硼B-C薄膜的关键技术研究/章嵩著

出版发行项:

北京:科学出版社,2017

ISBN及定价:

978-7-03-055333-1/CNY38.00

载体形态项:

90页:图;24cm

丛编项:

博士后文库

个人责任者:

章嵩 著

学科主题:

薄膜技术-研究

学科主题:

富硼渣-激光淀积-研究

中图法分类号:

TB43

中图法分类号:

TD926.4

一般附注:

中国博士后科学基金资助出版

书目附注:

有书目 (第83-90页)

提要文摘附注:

本书旨在利用脉冲激光沉积技术，将其分别采用碳化硼陶瓷靶与硼碳拼合靶为靶材。通过对靶材成分、组成形式及沉积温度等工艺参数的调整，得到表面平整、厚度均匀及成分可控的富硼B-C薄膜，建立靶材成分、组成形式和沉积温度等工艺参数与薄膜组成、结构之间的关系，对该系列薄膜的生长机理进行分析研究。

使用对象附注:

本书可作为薄膜材料研究专业科技人员的参考书，也可作为高等院校材料类及相关专业的本科生、研究生教学用书。

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