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MARC状态:已编 文献类型:中文图书 浏览次数:39

题名/责任者:
公差与技术测量/杨好学, 蔡霞主编
出版发行项:
北京:国防工业出版社,2009
ISBN及定价:
978-7-118-06232-8/CNY26.00
载体形态项:
XI, 224页:图;26cm
个人责任者:
杨好学 主编
个人责任者:
蔡霞 主编
学科主题:
公差-配合-高等学校-教材
学科主题:
技术测量-高等学校-教材
中图法分类号:
TG801
书目附注:
有书目 (第224页)
提要文摘附注:
本书内容包括:绪论,极限与配合,测量技术基础,几何公差等。
使用对象附注:
普通高等教育“十一五”规划教材 面向应用型人才培养
全部MARC细节信息>>
索书号 条码号 年卷期 馆藏地 书刊状态
TG801/93 CN1696044   爱心书屋     可借
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