MARC状态：审校 文献类型：中文图书 浏览次数：17
- 题名/责任者:
- 非晶硅热成像敏感薄膜制备技术研究/李军利著 刘卫国指导
- 出版发行项:
- 西安:西安工业大学,2013
- ISBN及定价:
- 缴送
- 载体形态项:
- 53页;29cm
- 个人责任者:
- 李军利 著
- 个人次要责任者:
- 刘卫国 指导
- 非控制主题词:
- PECVD;非晶硅薄膜；离子注入；TCR
- 中图法分类号:
- TN305.3
- 学位论文附注:
- 硕士论文——西安工业大学光电工程学院，2013
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