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MARC状态:已编 文献类型:西文图书 浏览次数:22

题名/责任者:
Fine line lithography / edited by Roger Newman.
出版发行项:
Amsterdam ; New York : North-Holland Pub. Co. ; New York : sole distributor for the USA and Canada, Elsevier North-Holland, 1980.
ISBN:
0444853510
载体形态项:
vii, 481 p. ; 23 cm.
丛编题名:
Materials processing, theory and practices ; v. 1
附加个人名称:
Newman, Roger.
论题主题:
Lithography.
论题主题:
Integrated circuits-Large scale integration.
中图法分类号:
TN47
书目附注:
Includes bibliographies and index.
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索书号 条码号 年卷期 馆藏地 书刊状态 还书位置
TN47/E13 700004872   西文密集     可借 西文密集
TN47/E13 700004873   西文密集     可借 西文密集
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