MARC状态:已编 文献类型:西文图书 浏览次数:22
- 题名/责任者:
- Fine line lithography / edited by Roger Newman.
- 出版发行项:
- Amsterdam ; New York : North-Holland Pub. Co. ; New York : sole distributor for the USA and Canada, Elsevier North-Holland, 1980.
- ISBN:
- 0444853510
- 载体形态项:
- vii, 481 p. ; 23 cm.
- 丛编题名:
- Materials processing, theory and practices ; v. 1
- 附加个人名称:
- Newman, Roger.
- 论题主题:
- Lithography.
- 论题主题:
- Integrated circuits-Large scale integration.
- 中图法分类号:
- TN47
- 书目附注:
- Includes bibliographies and index.
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索书号 | 条码号 | 年卷期 | 馆藏地 | 书刊状态 | 还书位置 |
TN47/E13 | 700004872 | 西文密集 | 可借 | 西文密集 | |
TN47/E13 | 700004873 | 西文密集 | 可借 | 西文密集 |
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