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MARC状态:审校 文献类型:中文图书 浏览次数:22

题名/责任者:
磁约束磁控溅射源的关键技术研究/袁渊明著 弥谦指导
出版发行项:
西安:西安工业大学,2011
ISBN及定价:
缴送
载体形态项:
69页;28cm
个人责任者:
袁渊明
个人次要责任者:
弥谦 指导
非控制主题词:
磁控溅射 磁约束 等离子体 有限元 靶材利用率
中图法分类号:
O532.11
学位论文附注:
硕士论文--西安工业大学光电学院,2011
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索书号 条码号 年卷期 馆藏地 书刊状态
O532.11/4 759001544   特种     阅览
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