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MARC状态：已编 文献类型：中文图书 浏览次数：20

题名/责任者:
反应磁控溅射沉积AIN薄膜特性研究/朱春燕著 朱昌指导
出版发行项:
西安:西安工业大学,2008
ISBN及定价:
/缴送
载体形态项:
70页;28cm
个人责任者:
朱春燕 著
个人次要责任者:
朱昌 指导
非控制主题词:
反应磁控溅射 氮化铝（AIN）薄膜 光学性能 硬度 微观结构 表面特性
中图法分类号:
O484
学位论文附注:
硕士论文--西安工业大学光电学院，2008
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索书号 条码号 年卷期 馆藏地 书刊状态
O484/28 759000644   特种     可借
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