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- 题名/责任者:
- End-Hall离子源沉积DLC膜的工艺研究[硕士论文]/郭芮著 朱昌 教授指导
- 出版发行项:
- 西安:西安工业大学,2006
- ISBN及定价:
- /CNY缴送
- 载体形态项:
- 60页;30cm
- 个人责任者:
- 郭芮 著
- 个人次要责任者:
- 朱昌 教授 指导
- 非控制主题词:
- 端部霍尔离子源 等离子体化学气相沉积 类金刚石薄膜
- 中图法分类号:
- TB43
- 学位论文附注:
- 光学工程：西安工业大学：2006
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