MARC状态：已编 文献类型：中文图书 浏览次数：26
- 题名/责任者:
- 离子束沉积薄膜技术及应用/刘金声著
- 出版发行项:
- 北京:国防工业出版社,2003
- ISBN及定价:
- 7-118-02882-7 精装/CNY34.00
- 载体形态项:
- 434页;21cm
- 个人责任者:
- 刘金声 著
- 学科主题:
- 薄膜技术
- 中图法分类号:
- TB43
- 提要文摘附注:
- 本书系统地介绍先进离子束沉积(IBD)薄膜技术及应用。全书共五章。包括离子束沉积薄膜技术基础；离子束溅射沉积薄膜技术研究及应用；双离子束制取薄膜和改性方法；离子束反应溅射沉积薄膜方法；离子束辅助轰击生长薄膜效应及离子束辅助沉积薄膜方法。本书取材新颖，理论联系实际，书中提供了丰富的研究方法及范例，对普及和推广离子束沉积薄膜技术具有重要指导意义。
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| 索书号 | 条码号 | 年卷期 | 馆藏地 | 书刊状态 |
| TB43/8 | CN1734297 |  资料室密集
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| TB43/8 | CN1734298 | 资料室密集
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| TB43/8 | CN1734299 | 资料室密集
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| TB43/8 | 396805 | 洪庆校区
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| TB43/8 | 396806 | 洪庆校区
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| TB43/8 | 396801 | 内阅图书
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| TB43/8 | 396802 | 未央馆
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| TB43/8 | 396803 | 金花馆
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| TB43/8 | 396804 | 金花馆
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