MARC状态:已编 文献类型:中文图书 浏览次数:19
- 题名/责任者:
- 基于永磁体的平面磁流变抛光技术的研究/薛阳韩江著 郭忠达指导
- 出版发行项:
- 西安:西安工业大学,2021
- ISBN及定价:
- 缴送
- 载体形态项:
- 55页;29cm
- 个人责任者:
- 薛阳韩江 著
- 个人次要责任者:
- 郭忠达 指导
- 非控制主题词:
- 磁流变抛光;去除特性;永磁体;多组磁极;大面积平面
- 中图法分类号:
- TN3
- 学位论文附注:
- 硕士学位论文——西安工业大学光电工程学院,2021
全部MARC细节信息>>