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题名/责任者:

高硬度（AlSiTiVCrNb)N高熵合金薄膜形成机制及其性能研究/房晓彤著 上官晓峰指导

出版发行项:

西安:西安工业大学,2021

ISBN及定价:

缴送

载体形态项:

74页;29cm

个人责任者:

房晓彤 著

个人次要责任者:

上官晓峰 指导

非控制主题词:

磁控溅射；（AlSiTiVCrNb)N薄膜；纳米多层膜；微观结构；力学性能；调制周期

中图法分类号:

TB383

学位论文附注:

硕士学位论文——西安工业大学材料与化工学院，2021

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