MARC状态：审校 文献类型：中文图书 浏览次数：41
- 题名/责任者:
- 铜及氧化亚铜薄膜的电沉积制备及其性能研究/孙芳著
- 出版发行项:
- 北京:冶金工业出版社,2019
- ISBN及定价:
- 978-7-5024-7990-9/CNY43.00
- 载体形态项:
- 156页:图;24cm
- 个人责任者:
- 孙芳 著
- 学科主题:
- 铜-金属薄膜-电沉积-制备
- 学科主题:
- 氧化铜-金属薄膜-电沉积-制备
- 中图法分类号:
- O614.121
- 中图法分类号:
- TF8
- 书目附注:
- 有书目
- 提要文摘附注:
- 本书采用电沉积方法制备出具有多种形貌的铜、氧化亚铜薄膜，并通过简单的热处理方法将氧化亚铜薄膜转化为氧化铜薄膜，探索自制的薄膜在光学及电催化氧化葡萄糖方面的性能应用。全书共分9章，第1章为绪论部分，第2章介绍了电化学沉积理论和实验，第3章为电沉积制备Cu2O薄膜的形貌控制，第4章为Cu2O薄膜的转化，第5章为Cu2O薄膜的性能研究，第6章为新型纳米铜薄膜的制备及其在无酶葡萄糖传感器上的应用，第7章为Cu/SWNTs复合薄膜的制备及其在无酶葡萄糖传感器上的应用，第8章为枝形氧化亚铜薄膜在无酶葡萄糖传感器上的应用，第9章为球形粒子聚集的类球形团簇构成的CuO薄膜的制备及其在无酶葡萄糖传感器上的应用。
- 使用对象附注:
- 本书可供从事薄膜材料制备的研究学者和其他从事新材料研究和开发的技术人员阅读，也可作为高等院校材料、物理、化学等相关专业本科和研究生的学习参考书
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| 索书号 | 条码号 | 年卷期 | 馆藏地 | 书刊状态 | 还书位置 |
| O614.121/1 | CN1780183 |  内阅图书
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阅览 | 内阅图书 | |
| O614.121/1 | CN1780184 | 未央馆
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可借 | 未央馆 | |
| O614.121/1 | CN1780185 | 未央馆
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可借 | 未央馆 |
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