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MARC状态:审校 文献类型:中文图书 浏览次数:33

题名/责任者:
二氧化硅光学薄膜材料/季一勤, 刘华松著
出版发行项:
北京:国防工业出版社,2018
ISBN及定价:
978-7-118-11555-0 精装/CNY89.00
载体形态项:
208页, [30] 页图版:图 (部分彩图);25cm
并列正题名:
Silicon dioxide optical thin film materials
个人责任者:
季一勤
个人责任者:
刘华松
学科主题:
二氧化硅薄膜-光学薄膜
中图法分类号:
TB43
一般附注:
国家科学技术学术著作出版基金
书目附注:
有书目 (第202-208页)
提要文摘附注:
本书系统地归纳总结了二氧化硅光学薄膜材料的基本特性及其应用。作者通过理论分析和实验, 重点针对物理气相沉积制备的二氧化硅光学薄膜材料的光学和力学的随机网络微结构特性进行深入的研究, 给出了典型的现代光学精密系统中的光学多层膜元件研究结果。对于高性能和特种光学多层膜的应用, 本书的研究结果具有重要的参考价值。
使用对象附注:
光学工程、光电信息技术以及薄膜材料物理等相关学科从事光学薄膜技术研究的科研人员、工程技术人员
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索书号 条码号 年卷期 馆藏地 书刊状态 还书位置
TB43/54 CN1546025   内阅图书     阅览 内阅图书
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