MARC状态：审校 文献类型：中文图书 浏览次数：30
- 题名/责任者:
- 大口径光学元件离子束沉积修正抛光工艺研究/王泉著 刘卫国指导
- 出版发行项:
- 西安:西安工业大学,2018
- ISBN及定价:
- 缴送
- 载体形态项:
- 68页;29cm
- 个人责任者:
- 王泉 著
- 个人次要责任者:
- 刘卫国 指导
- 非控制主题词:
- 碳酸二氢钾晶体；溅射沉积；离子束刻蚀；应力；平坦化层
- 中图法分类号:
- O734
- 学位论文附注:
- 硕士学位论文——西安工业大学光电学院，2018
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