MARC状态：已编 文献类型：中文图书 浏览次数：33
- 题名/责任者:
- 1064nm激光高反膜制备及损伤特性研究/侯妮妮著 苏俊宏，程耀进指导
- 出版发行项:
- 西安:西安工业大学,2016
- ISBN及定价:
- 缴送
- 载体形态项:
- 52页;29cm
- 个人责任者:
- 侯妮妮 著
- 个人次要责任者:
- 苏俊宏 指导
- 个人次要责任者:
- 程耀进 指导
- 非控制主题词:
- 光学薄膜；金属-介质膜；激光损伤机理；激光预处理
- 中图法分类号:
- O484.5
- 学位论文附注:
- 工程硕士学位论文——西安工业大学光电工程学院，2016
全部MARC细节信息>>
特种