MARC状态：审校 文献类型：中文图书 浏览次数：48
- 题名/责任者:
- 硅化钼的氧化/张厚安...[等]著
- 出版发行项:
- 北京:科学出版社,2016
- ISBN及定价:
- 978-7-03-048249-5 精装/CNY88.00
- 载体形态项:
- 230页:图;25cm
- 个人责任者:
- 张厚安 著
- 个人责任者:
- 古思勇 著
- 个人责任者:
- 张勇 著
- 个人责任者:
- 麻季冬 著
- 学科主题:
- 硅化钼-氧化
- 中图法分类号:
- TB33
- 题名责任附注:
- 题名页题其余责任者: 古思勇, 张勇, 麻季冬
- 书目附注:
- 有书目
- 提要文摘附注:
- 本书在总结氧化理论的基础上，收集了近年来国内外在硅化钼氧化方面的研究成果，重点介绍了作者十多年来的研究进展，包括二硅化钼及其复合材料的氧化性能和氧化机理、硅化钼涂层的制备及其氧化性能，给出了硅化钼高温抗氧化涂层的设计思想与不同基体的应用实例。
全部MARC细节信息>>
| 索书号 | 条码号 | 年卷期 | 馆藏地 | 书刊状态 | 还书位置 |
| TB33/68 | CN1473269 | - |  内阅图书
|
阅览 | |
| TB33/68 | CN1473270 | - | 未央馆
|
可借 | 未央馆 |
| TB33/68 | CN1473271 | - | 未央馆
|
可借 |
显示全部馆藏信息