西安工业大学图书馆书目检索系统

| 暂存书架(0) | 登录

MARC状态：审校 文献类型：中文图书 浏览次数：45

题名/责任者:
薄膜技术与应用/冯丽萍, 刘正堂编著
出版发行项:
西安:西北工业大学出版社,2016
ISBN及定价:
978-7-5612-4739-6/CNY39.00
载体形态项:
222页:图;26cm
丛编项:
西北工业大学研究生高水平课程体系建设丛书
个人责任者:
冯丽萍 编著
个人责任者:
刘正堂 编著
学科主题:
薄膜技术-研究生-教材
中图法分类号:
TB43
书目附注:
有书目(第217-222页)
提要文摘附注:
本书内容包括：真空技术基础；真空蒸发镀膜；分子束外延生长；溅射镀膜；激光脉冲沉积；离子镀和离子束沉积；化学气相沉积；溶液镀膜法等。
全部MARC细节信息>>
索书号 条码号 年卷期 馆藏地 书刊状态 还书位置
TB43/39 CN1462054  - 内阅图书     阅览
TB43/39 CN1462055  - 未央馆     可借 未央馆
TB43/39 CN1462056  - 未央馆     可借 未央馆
显示全部馆藏信息
借阅趋势

同名作者的其他著作(点击查看)
用户名：
密码：
验证码：
请输入下面显示的内容
  证件号 条码号 Email
 
姓名：
手机号：
送 书 地：
收藏到： 管理书架