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题名/责任者:

红外焦平面阵列成像及其非均匀性校正技术/代少升 ... [等] 著

出版发行项:

北京:科学出版社,2015

ISBN及定价:

978-7-03-043617-7/CNY80.00

载体形态项:

158页:图;24cm

个人责任者:

代少升 著

个人责任者:

李季碧 著

个人责任者:

张天骐 著

个人责任者:

黄俊 著

学科主题:

红外成象系统-研究

学科主题:

红外成象系统-校正

中图法分类号:

TN216

题名责任附注:

题名页题其余责任者: 李季碧, 张天骐, 黄俊

书目附注:

有书目

提要文摘附注:

全书共7章，第1章绪论，主要阐述红外线的发现、红外热成像技术的国内外发展现状和红外焦平面阵列非均匀性校正的意义。第2章为红外辐射理论，主要介绍红外辐射的普遍性、红外辐射源的概念及红外辐射的基本定律。第3章为红外焦平面阵列工作原理及其成像系统的设计，主要介绍红外焦平面阵列的工作原理、红外成像系统的构成，并给出红外成像系统的具体设计。第4章为红外焦平面阵列非均匀性校正技术，主要介绍红外焦平面阵列非均匀性定义、非均匀性校正方法分类、定标类校正方法和场景类校正方法的实现过程。

使用对象附注:

本书读者主可供科研院所、企业单位及高等院校从事红外热成像技术研究的管理人员、科研工作人员，技术人员及销售人员学习和参考，也可作为高等院校电子信息类相关专业（电子信息、光电工程、计算机专业）的高年级本科生、研究生参考资料。

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