MARC状态：审校 文献类型：中文图书 浏览次数：30
- 题名/责任者:
- 精密磁流变抛光机控制系统设计与优化/杨绍培著 陈智利指导
- 出版发行项:
- 西安:西安工业大学,2014
- ISBN及定价:
- 缴送
- 载体形态项:
- 71页;29cm
- 个人责任者:
- 杨绍培 著
- 个人次要责任者:
- 陈智利 指导
- 非控制主题词:
- 磁流变抛光；面接触；插补；伺服控制系统；人机交互
- 中图法分类号:
- TP23
- 学位论文附注:
- 硕士学位论文——西安工业大学光电工程学院，2014
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