MARC状态：审校 文献类型：中文图书 浏览次数：27
- 题名/责任者:
- 基于ELID磨削氧化膜生长过程动态控制系统/胡正飞著 朱育权指导
- 出版发行项:
- 西安:西安工业大学,2013
- ISBN及定价:
- 缴送
- 载体形态项:
- 74页;29cm
- 个人责任者:
- 胡正飞 著
- 个人次要责任者:
- 朱育权 指导
- 非控制主题词:
- STM32；程控电源；驱动放大电路；V-MOS电路；PWM方波
- 中图法分类号:
- TP273
- 学位论文附注:
- 硕士论文——西安工业大学机电学院，2013
全部MARC细节信息>>
特种