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题名/责任者:

铁电薄膜沉积技术研究/孙晓涛著 刘卫国指导

出版发行项:

西安:西安工业大学,2012

ISBN及定价:

缴送

载体形态项:

51页;29cm

个人责任者:

孙晓涛 著

个人次要责任者:

刘卫国 指导

非控制主题词:

MOCVD；液体输运技术；等离子体增强；PZT薄膜；红外热释电探测

中图法分类号:

TN384

学位论文附注:

硕士论文——西安工业大学光电工程学院，2012

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