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MARC状态：审校 文献类型：中文图书 浏览次数：36

题名/责任者:
铁电薄膜沉积技术研究/孙晓涛著 刘卫国指导
出版发行项:
西安:西安工业大学,2012
ISBN及定价:
缴送
载体形态项:
51页;29cm
个人责任者:
孙晓涛 著
个人次要责任者:
刘卫国 指导
非控制主题词:
MOCVD；液体输运技术；等离子体增强；PZT薄膜；红外热释电探测
中图法分类号:
TN384
学位论文附注:
硕士论文——西安工业大学光电工程学院，2012
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索书号 条码号 年卷期 馆藏地 书刊状态
TN384/4 759001946   特种     阅览
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