MARC状态：审校 文献类型：中文图书 浏览次数：29
- 题名/责任者:
- 用不同溅射方法镀制SiO2薄膜光学特性的研究/米高园著 朱昌指导
- 出版发行项:
- 西安:西安工业大学,2011
- ISBN及定价:
- 缴送
- 载体形态项:
- 56页;28cm
- 个人责任者:
- 米高园 著
- 个人次要责任者:
- 朱昌 指导
- 非控制主题词:
- 磁控溅射 离子束反应溅射 氧化硅薄膜 光学特性 损伤阈值
- 中图法分类号:
- O484
- 学位论文附注:
- 硕士论文--西安工业大学光电学院,2011
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