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MARC状态：审校 文献类型：中文图书 浏览次数：71

题名/责任者:
应用光学/张以谟主编
版本说明:
3版
出版发行项:
北京:电子工业出版社,2008
ISBN及定价:
978-7-121-06917-8/CNY69.00
载体形态项:
704页:图表;26cm
个人责任者:
张以谟 主编
学科主题:
应用光学-高等学校-教材
中图法分类号:
O439
一般附注:
电子信息与电气学科规划教材·光电信息科学与工程专业
提要文摘附注:
本书内容包括四部分：几何光学、像差理论、典型光学系统和光学系统设计。
全部MARC细节信息>>
索书号 条码号 年卷期 馆藏地 书刊状态 还书位置
O439/22=3 CN1663183   资料室密集     可借
O439/22=3 CN1636586   爱心密集     可借 爱心密集
O439/22=3 CN1696581   爱心书屋     可借 爱心书屋
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